【摘要】采用反应直流磁控溅射法在镍锌铁氧体基片上制备的TaN薄膜电阻器，由于镍锌铁氧体基片表面平整性差，散热性能低，制得的电阻器功率为1W。通过制作CaO-Al2 03 -Si02 (CAS)玻璃釉，以丝网印刷的方式对基片表面进行处理，再经过850℃烧结处理，得到具有一定表面平整性的基片。基于处理后的铁氧体基片制作的TaN薄膜功率电阻器的功率显著提高，从1W提升到了2.5 W。
【关键词】
《考试与评价》 2015-11-12
《考试与评价》 2015-11-12
《河南理工大学学报（自然科学版）》 2015-11-12
《考试与评价》 2015-11-12
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《考试与评价》 2015-11-13
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010-56259535
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