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ST-石英的湿法腐蚀工艺研究

更新时间:2015-11-12

【摘要】对影响ST-切向石英表面湿法腐蚀质量的因素进行了试验研究,并对结果进行了详细分析。试验基片材料为双面抛光的ST-切向石英晶体,掩蔽膜材料为CrlAu双层金属膜,腐蚀液为HF和NH4F的混合溶液;主要研究了基片清洗、腐蚀液成分配比及腐蚀温度等工艺参数对基片表面腐蚀质量的影响,并通过选择最佳的试验参数,以约0.7 Um/min的适中腐蚀速率加工出了满足要求的晶体表面。

【关键词】

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