【摘要】在Al2 03陶瓷衬底上用直流磁控溅射技术沉积过渡层Mo，再利用微波等离子体化学沉积系统在Mo过渡层上制备非晶碳薄膜，利用X线衍射(XRD)、拉曼(Raman)和电镜扫描(SEM)技术分析了薄膜的结构和表面形貌，测试了所制备样品的场发射及其发光特性，研究了薄膜的场发射特性。结果表明，所制备的薄膜为非晶碳和M02C的复合薄膜。所制备的薄膜具有较好的场发射特性，开启场强为0.74 V/tim，1.8 V/tim的场强下发射电流密度达到6 800 t.A／cm2，且发光点分布均匀，利用迭代法计算了所制备薄膜的有效场发射面积和其功函数。
【关键词】
《压电与声光》 2015-11-12
《宁波职业技术学院学报》 2015-11-12
《河南理工大学学报（社会科学版）》 2015-11-12
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《西北水电》 2015-11-13
《考试与评价》 2015-11-12
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010-56259535
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